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研究表明：铯的掺入可以降低钙钛矿层的缺陷密度和电荷复合率。铷的添加导致电荷载流子迁移率增加，使器件效率小幅的提高和电流-电压滞后效应的
01-23互联网
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研究表明：铯的掺入可以降低钙钛矿层的缺陷密度和电荷复合率。铷的添加导致电荷载流子迁移率增加，使器件效率小幅的提高和电流-电压滞后效应的
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